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エアロゾルヴィジュアル 試験用ダスト12種 (カーボンブラック)
山下憲一
空気清浄 30(1): 78-78, 1992.
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エアロゾルヴィジュアル 試験用ダスト15種 (混合ダスト)
山下憲一
空気清浄 30(1): 79-79, 1992.
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特集 クリーンウェハ搬送とIC製造自動化 (1) ウェハ大口径化とIC製造自動化
原田宙幸
三菱商事 (株)
空気清浄 30(2): 90-96, 1992.
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特集 クリーンウェハ搬送とIC製造自動化 (1) クリーンウェハ搬送システム
鈴木勝琉, 鈴木信一
日本信号 (株) 自動制御技術部
空気清浄 30(2): 97-107, 1992.
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特集 クリーンウェハ搬送とIC製造自動化 (1) IC製造自動化とチャージアップ防止
稲葉仁
高砂熱学工業 (株) 総合研究所
空気清浄 30(2): 108-121, 1992.
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特集 クリーンウェハ搬送とIC製造自動化 (1) ウェハ搬送とクリーンルーム気流制御
峰岸裕一郎*, 澤田朋之*, 藤田一史*, 寿上宏司**
*富士電機 (株), **富士ファコム制御 (株)
空気清浄 30(2): 122-140, 1992.
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特集 クリーンウェハ搬送とIC製造自動化 (1) パラジクロロベンゼンのモニタリング法の検討と本法を用いたパラジクロロベンゼンの室内及び個人暴露濃度の測定結果について
松村年郎*, 石原久義2*, 村松学3*, 浅田誠4*, 長田英二5*, 小嶋茂雄*
*国立衛生試験所, 2*テイサン (株), 3*東京都杉並西保健所, 4*東京都立大学, 5*電気化学計器 (株)
空気清浄 30(2): 158-165, 1992.
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特集 クリーンウェハ搬送とIC製造自動化 (1) 第38回IES年次大会報告 第38回IES年次大会におけるWG活動について
藤井修二
空気清浄 30(2): 167-176, 1992.
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特集 クリーンウェハ搬送とIC製造自動化 (2) 窒素ガスによるウェハの気流搬送
都田昌之1), 宍戸昌広1), 菅野洋一2), 梅田優3), 新田雄久4), 大見忠弘5)
1)山形大学工学部物質工学科, 2)(株) 本山製作所, 3)(株) 渡邊商行, 4)(株) 日立製作所デバイス開発センター, 5)東北大学工学部電子工学科
空気清浄 30(3): 192-203, 1992.
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特集 クリーンウェハ搬送とIC製造自動化 (2) IC製造自動化のための標準化
黒田久雄
NTTグループ事業推進本部
空気清浄 30(3): 204-217, 1992.
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